【行业】高镍三元-掘金三元驱体巨头正在形成(40页)

前驱体生产工艺可分为间歇法和连续法两种。间歇法在反应过程中,反应浆料通过溢流管不断溢出到浓缩机进行浓缩,清液滤掉进行废水处理,物料则返回反应釜让晶体继续长大,直至反应釜内前驱体粒径达到要求,然后转去陈化釜静置一段时间,以完善前驱体晶体结构形貌,然后进入后道过滤、洗涤、干燥、包装流程。连续法则在反应过程中,同时进料和出料,反应浆料通过溢流管不断溢出到陈化釜,经过陈化静置,然后进入后道过滤、洗涤、干燥、包装流程。

间歇法生产前驱体粒径分布极窄,连续法生产产能更高。间歇法生产物料在反应釜内停留时间较为均一,生产出前驱体粒径分布更窄,适用于生产高端型如高镍、单晶型前驱体产品;但存在生产连续性差,批次稳定性差缺点。连续法生产产率更高,相同容积反应釜连续法生产产能约为间歇法产能两倍,并且批次稳定性好;但由于一边进料一边出料,物料在反应釜内停留时间分布较宽,生产出的前驱体粒径分布也更宽,尤其存在一些粒径过小颗粒,在正极烧结过程中会导致过烧,从而影响正极品质,目前主要用于生产中低端前驱体产品。

沉淀过程中的 pH 直接影响晶体颗粒的成核、生长。不同 pH 值条件下得到不同形貌的前驱体颗粒的原因可以解释为沉淀 pH 条件对晶体成核速度和生长速度的影响。当 pH 值偏低时,由于溶液中过饱和度较小,前驱体颗粒生长速度大于其成核速度,易于得到形貌较好的颗粒。而在高 pH 值条件下,溶液体系中过饱和度较大,晶核的形成速率很快,而前驱体颗粒的生长速度较慢,因而形成颗粒较小的微晶结构。

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