光掩模版可按照组成与产品进行分类。光掩膜版主要由基板与遮光膜两部分组成，其中基板可分为透明树脂基板和透明玻璃基板，透明树脂基板易于大型化，但是易变形，相较而言玻璃基板更为常用，按照玻璃材质可细分为合成石英、硼硅玻璃和苏打玻璃三类；遮光膜材料主要是乳胶遮光膜与硬质遮光膜两大类，硬质遮光膜可进一步细分为铬、硅、硅化钼、氧化铁四类，其中铬质材料具有涂覆均一性好，刻蚀精度高，且无毒无污染的优点，应用最为广泛。按照用途可将光掩膜版分为铬版、凸版、干版和液体凸版四类，其中，铬版主要由铬质遮光膜与石英基板组成，由于其精度高、耐用性好，广泛应用于在微电子制造领域。 光的制造流程包括材料准备、CAD 图形设计，光刻、显影、蚀刻和脱模。制造光掩膜版的材料主要是合成石英基板，材料准备是指对其进行抛光、清洗，并在表面覆盖铬膜；光刻是将处理好的图形数据文件传递给激光光绘机，对匀胶铬版进行非接触式曝光；显影是将曝光处理的光刻胶层去除，显露铬层；蚀刻是把曝露处铬层腐蚀去除；脱膜即将剩下的光刻胶去除。 光掩膜版的原材料主要为基板（合成石英、硼硅玻璃和苏打玻璃等），下游应用包括平板显示、集成电路、触摸屏、电路板等。光掩膜版行业的产业链分为上游的图形设计、光掩膜设备和材料行业，中游的光掩膜版制造和下游的微电子运用。光掩膜版制造商分为两种类型，将光掩膜版卖给其他公司的独立商业制造商，如清溢光电等；自产自用的专属制造商，如台积电等。目前全球范围内光掩膜版主要以专业生产商为主，而光掩膜版生产商主要采用采购光掩膜版基材的方式，少数厂商具备上游基材生产能力。