【行业】电子设备-高端光刻胶迎国产化良机(34页)

光刻胶是晶圆制造重要材料。光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种感光材料,在光的照射下发生溶解度的变化,可以通过曝光、显影及刻蚀等一系列步骤将掩膜板上的图形转移到基片上。光刻胶是电子产品细微加工技术的关键性电子产品,被广泛应用于半导体、液晶显示(LCD)、印刷电路板(PCB)等领域。

光刻胶是由树脂、添加剂、光引发剂和溶剂等组成的对光敏感的混合液体。从光刻胶成本占比来看,树脂占比最大约 50%,其次是添加剂占比约 35%,剩余成本合计占比约 15%。从各成分作用来看,树脂是惰性聚合物,是用于把光刻胶中的不同材料聚在一起的粘合剂,给予光刻胶机械和化学性质;添加剂(包括单体、助剂等)则控制和改变光刻材料的特定化学性质或光响应特性;光引发剂(包括感光剂、光致产酸剂等)是光刻胶材料中的光敏成分,发生光化学反应;溶剂使光刻胶具有流动性,易挥发,对于光刻胶的化学性质影响小。

光刻胶的性能指标包括分辨率、对比度、灵敏度、粘度、粘附性、抗蚀性和表面张力等。光刻胶是制造集成电路的关键材料,其性能直接影响到集成电路芯片上的集成度、运行速度及功耗等性能,因此要求光刻胶具有高分辨率、强粘附性,有良好的耐热性、耐碱性、抗蚀性、工艺宽容度大等特性。

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